談?wù)劧嘈д麴s水機(jī)的清洗

寧波三合工程設(shè)備有限公司  沈海松

列管式多效蒸餾水機(jī)是一種節(jié)能的蒸餾水制取設(shè)備。由于其性能可靠、蒸餾水質(zhì)量穩(wěn)定，故得到越來越廣泛的使用。

和其他水處理裝置一樣，多效蒸餾水機(jī)要使用過程中也需要維護(hù)保養(yǎng)，清洗是其中一個(gè)重要項(xiàng)目。根據(jù)多效蒸餾水機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，一般采用化學(xué)清洗。本文所介紹的“清洗”即指化學(xué)清洗。

一、   清洗的要求和原理

當(dāng)多效蒸餾水機(jī)在使用過程中發(fā)現(xiàn)產(chǎn)水量有明顯的下降，或在例行檢查中發(fā)現(xiàn)塔內(nèi)有明顯結(jié)垢時(shí)，即應(yīng)進(jìn)行清洗。

形成水垢的原因主要是進(jìn)料水中殘存的無機(jī)鹽長時(shí)間與設(shè)備內(nèi)壁接觸、在較高的溫度和壓力下形成的。

二、   水垢的種類及對應(yīng)的清洗劑

多效蒸餾水機(jī)中產(chǎn)生的水垢主要有兩種，一種是鍋爐水垢，另一種是二氧化硅水垢，清洗時(shí)應(yīng)采用不同的清洗劑：

1、        對鍋爐水垢，可用氨基磺酸（NH₂SO₂OH），使用時(shí)用去離子水配制成濃度為1％的清洗溶液，其PH值在所1~2之間，并加熱到60℃左右。也可用磷酸（H₃PO₄），使用時(shí)用去離子水配制成2％濃度的清洗溶液，并加熱到65℃左右。

2、        對二氧化硅水垢，可采用二氟化銨（NH₄HF₂），使用時(shí)用去離子水配制成濃度為1.5％的溶液，并加熱到50℃~60℃。 

也可采有用氫氧化鈉＋陰離子活性劑，配制成濃度為10％的清洗液，并加熱到60℃左右。

在化學(xué)清洗方法去除上述兩種水垢時(shí)，不少用戶還采用市售的通用型不銹鋼清洗劑，效果不錯(cuò)，使用也較方便。

在使用酸性溶液清洗以后，一般還要求使用中和溶液進(jìn)行中和。中和溶液的配制方法如下：

在去離子水中加入0.5%的小蘇打（HaHCO₃）和0.1%陰離子界面活性劑。

三、清洗用設(shè)備

    清洗前要準(zhǔn)備好設(shè)備，主要有：

1、        貯罐

其容量應(yīng)大于zui低所需的清洗液用量。為安全起見，貯罐應(yīng)設(shè)蓋。蓋上裝有視鏡（觀察清洗溶液回流情況）和通氣孔。

貯罐應(yīng)有加熱功能，如加熱夾套或浸入式加熱器。應(yīng)注意的是，不能直接用鍋爐蒸汽或蒸餾水機(jī)引出的純蒸汽加熱清洗溶液，這樣會改變清洗液的濃度。

2、        循環(huán)耐酸泵

采用壓頭為2.5kg~3kg、流量為100升／分鐘的耐酸泵。

3、        連接軟管

用于把清洗用貯罐和蒸餾水機(jī)連接成清洗回路，軟管應(yīng)耐酸耐壓。

4、        閥門

用于切斷清洗液以及調(diào)節(jié)清洗液流量。

四、    清洗的步驟

1、   準(zhǔn)備工作

a、    關(guān)閉蒸汽閥門，把蒸餾水機(jī)冷卻到室溫。關(guān)閉設(shè)備 

    電源；

b、   關(guān)閉排氣閥門；

c、把蒸餾水機(jī)的“不合格水出口”和排污口與貯罐的流入口連接起來；

d、   卸去蒸餾水機(jī)全部節(jié)流孔板。因孔板的孔徑大小不同，故在卸下前做好記號，以便在清洗完畢后順利復(fù)原；

e、卸去塔內(nèi)的進(jìn)料水配液盤；

f、 在貯罐里灌滿去離子水；

g、    開啟循環(huán)泵，向蒸餾水機(jī)灌水，直到灌滿為止。

h、   調(diào)節(jié)閥門，使去離子水平穩(wěn)地從蒸餾水機(jī)流入貯罐；

i、      打開所有塔頂部排氣閥，排出塔內(nèi)空氣，使塔內(nèi)表面與清洗液充分接觸。排氣后關(guān)閉。

2、   清洗

a、    向貯罐加入酸溶液（按前述濃度要求加入）；

b、   在蒸餾水機(jī)和貯罐間循環(huán)流動(dòng)，清洗循環(huán)時(shí)間2~12小時(shí)，具體要根據(jù)結(jié)垢的程度確定。循環(huán)清洗中溶液的溫度應(yīng)達(dá)到規(guī)定的要求；

c、    定時(shí)測定PH 值，PH值在所1~2之間為正常；

d、   清洗結(jié)束后，把清洗液排放到其他好迥另行處理；

e、    關(guān)閉循環(huán)泵；

f、     用去離子水沖洗約1小時(shí)。當(dāng)PH值達(dá)到5~7時(shí)，停止沖洗，并放空沖洗水。

3、    如果既有鍋爐水垢又對二氧化硅水垢進(jìn)行清洗。方法同上，所同溶液前已介紹。如無二氧化硅水垢，可進(jìn)入中和階段。

4、   中和階段

a、    向蒸餾水機(jī)灌滿去離子水并排放掉塔內(nèi)的空氣；

b、   按前述的濃度要求加入中和溶劑，并使其循環(huán)；

c、中和的時(shí)間約為1小時(shí)；

d、   中和結(jié)束后排放中和液；

e、關(guān)閉循環(huán)泵。

5、   終了操作

a、    打開全部排放管口;

b、   用去離子水對蒸餾水機(jī)進(jìn)行沖洗直到無明顯泡沫且 

        PH值恢復(fù)到正常值（PH＝7）；

c、卸去清洗接頭；

d、   打開塔兩端的法蘭，觀察清洗效果并清洗配液盤；

e、重新裝上配液盤機(jī)上、下法蘭。固定上下法蘭時(shí)，

    務(wù)必仔細(xì)操作，因?yàn)檎麴s塔是壓力容器；

f、  重新裝上節(jié)流孔板，注意按預(yù)先做好的記號復(fù)原；

g、    按上述清洗原理和方法對冷凝器的冷卻水管進(jìn)行清

    洗。